"改造之後的14nm晶片將比原來的功耗降低57%，邏輯面積小63%，SOC面積減少55%，這換
算下來，正是7nm晶片的數據，雖然是通過「N+1」工藝作出的是「偽7nm晶片」，但這也
意味著，中芯國際已經正式成為全球第三家掌握10nm以下工藝的晶片企業"
我來幫大家做一下閱讀理解 文章的意思並不是說他們擁有7nm的技術
而是他們有一種技術可以對14nm的晶片進行改造 將所有性能進行提高 相當於改造
後的14nm晶片具有傳統7nm晶片的性能
這種將已有晶片性能提升的方法 他們稱之為N+1工藝 標題是有些誤導 但是仔細
閱讀還是可以理解的
不過換個角度想 如果原本已經掌握7nm技術的公司 再引入這樣子的方法 就能夠
再進一步提高晶片的性能
※ 引述《a1106abc (HP都陷入內戰中)》之銘言：
: 如題
: 光刻機就是台灣黃光製程的曝光機
: 中芯宣布有一個N+1技術能夠不用曝光機
: 做出7nm製程
: https://i.imgur.com/66uWci6.jpg
: 全文有興趣的可以去google
: 至於N+1技術是什麼？
: https://i.imgur.com/Q2hLzLM.jpg
: 大概是用手刻吧