對這兩間公司都算是有小小認識
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GG個人覺得是各個module合作起來
大家都知道晶片製程要經過很多道程序
像是黃光 蝕刻 氣象沉積那些
ASML的話就是曝光機的霸主
以技術來講應該海放nikon跟canon
193nm以下無人能及
當初immersion的導入已經算是個里程碑
用水來增加NA降低resolution真的很厲害
沒想到EUV直接把波長降到13.5
開外掛
不過EUV本身機台也是不好修
以前修DUV時覺得小小台的還好
第一次看到EUV的時候真的傻了 根本巨獸
因為抽真空所以又多了很多pump那些
產光是用co2 laser打錫所以又多一個source module
各種複雜 當機很崩潰
保養也很崩潰XD
如果要比的話
gg當然是晶圓產業霸主沒錯
asml就是曝光機的技術領導
大概是這樣
兩間也都是互利共生的關係
而且目前EUV 記憶體產業也還沒導入
以台灣來說gg真的就是我們最大的客戶了