光刻機就搞死你了。
美國不讓荷蘭ASML出口光刻機給中芯國際，中芯國際的工藝即便能追上台積電，也只能完
蛋。
除了光刻機，還有半導體的加工材料，高端的都掌握在日本手裏，美國不讓日本出口給中
芯國際，中芯國際也沒有辦法。
試想如果美國禁止ASML出口光刻機給台積電，禁止日本出口高精密加工材料給台積電，台
積電的制造工藝再好，是不是也要完蛋？
所以現在大陸為了突破這個半導體的限制，只能全產業鏈發展。而台灣只發展制造工藝就
行了，光刻機直接從荷蘭ASML進口，半導體材料從日本進口，不必擔心制裁。
關於大陸的光刻機，上海微電子裝備(集團)股份有限公司預計將在2021-2022年交付第一
臺28nm工藝的國產沈浸式光刻機。
而對於光刻機的各個子系統：
清華大學和北京華卓精科負責雙工件臺系統，進度比較快，2019年底剛通過了02專項的
CDR裏程碑評審，研發和試產基地也完成了建設，是世界第二個掌握該項技術的（第一個
為ASML的Twinscan技術）。
浙江大學流體動力與機電系統國家重點實驗室和浙江啟爾機電負責沈浸式光刻機的浸液系
統，目前進度還可以，算是全世界第三家（第一ASML，第二為Nikon）。
中科院光電研究院負責準分子激光光源系統，由北京科益虹源負責產業轉化，據之前的報
道，國產40W 4kHz ArF光源已經交付（準分子激光光源此前只有兩家公司提供，分別為美
國Cymer公司和日本Gigaphoton公司，前者已經被ASML全資收購）。
中科院長春光機所（現北京國望光學）和上海光機所負責光學部分，其中長春負責物鏡系
統，上海負責照明系統，此前NA 0.75光刻機曝光光學系統已經通過02專項驗收，滿足
90nm級ArF幹式光刻機的需要，但主流的ArF浸沒式光刻機一般需要60W 6kHz等級的光源，
似乎情況不容樂觀。
※ 引述《gsmzxcvbnm (最愛邦之葵)》之銘言：
: 如題，
: 為啥一樣是政府扶植，三星半導體科技幾乎都是頂尖，
: 中國扶植科技業就整天爛尾欠款技術落後人，朝鮮人是不是比一般漢人聰明？
: 有沒有八卦？