其實這個技術的原理你知我知
一句話就講完了：曝光顯影
阿不就提供光源然後找個穩定不入塵的機台拍照不就好了
大家一開始都覺得這應該不難吧
可是當需要曝光顯影的東西越來越細 到了奈米維度的時候
因為光線繞射的物理現象
使得這台機器一下子成了尖端科技的綜合
首先要找到能夠產生極短波長的光源
然後曝光也不能在空氣中
如何盡量降低繞射這就需要深厚的光學與材料科學的研究
還要把這些需要的材料穩定的弄到手並組裝成可用的機器
這你沒有早早開始研究 根本就做不出來
不過ASML目前雄霸一方的關鍵 除了產品技術能力以外
還得力於歐洲人文精神的底蘊：把你當人看
他的售後服務非常完整 對於使用者的協助相當給力
只差沒有派人到場直接幫你操作機器
這種與使用者緊密合作的關係
也是確保ASML可以一直走在曝光機發展尖端的關鍵
因為他能第一時間充分理解使用者的需求與系統優化的方向
※ 引述《gindisergo (gindis)》之銘言：
: 說到半導體製造的重要裝置紫外光機、極紫外光機
: 就幾乎都是荷蘭艾司摩爾公司供應
: 似乎這個領域就由它獨佔了
: 作半導體的台積電還要與英特爾、三星競爭
: 但是作半導體裝置製造的，好像就只有艾司摩爾
: 難道沒有其他廠商做得出來？
: 到底有甚麼秘訣讓它可以獨大？