※ 引述《k0122k (厚嫩)》之銘言
: 為什麼支八毛可以亂說不打草稿，起碼你也抄一下嘛
: 如果不考慮ROI,空間, 就光是透鏡組成就不知道要多大了，有可能超過一間透天別墅的大
: 小
: 接下來 這是要多強大的功率才能把pattern 穿過光罩投射到晶片上
: EUV最大兩個挑戰就是 透鏡比(NA)吧 忘了
: 以及光源強度
: 你國可以土法煉鋼？？？
: 真的當EUV是荷蘭一個國家研發出來而已嗎？
: 裡面每一個部件都是一家一家公司堆疊出來的分散在各個國家，
: 幹 支八毛真的不要在北爛惹
: 回牆內高潮辣
你沒看明白，所以我再解釋一下。
1、清華的這個方案，因爲使用 同步輻射光源+電磁場偏轉，所以直接能得到各種波長的高
功率光源，不需要asml技術的大量透鏡組合。
所以你説的別墅大小的鏡片，本來就是不存在的。
另外，因爲減少了鏡片折射之間的能量損耗，所以功率本身就在asml幾十倍的同步輻射光源
，理論上能同時對接幾十個光刻工廠，從1nm到100nm，看每個工廠需求，甚至還可以有功率
分光。
清華方案恰恰是爲了規避asml技術的光源和透鏡組合，降級技術難度，才會選擇大型化、設
備工廠化、同步輻射光源方案。
2、中國現在euv是好幾個技術方案同時進行中。
清華這個只不過是腦洞最大的，所以被自媒體炒作而已。當然，論文發了，實際建設的驗證
光源半年前也開始建設了。但工程化確實應該不會很快。
而長春、上海都各自在牽頭另外不同的方案。
比如，asml方案，長春牽頭。從公開的各種消息看，光源、透鏡、光刻膠、雙機位工作臺都
已經有不同的單位研究出來了，但最終整機狀態，還不知道。
所以，中國并不是只有清華那個腦洞方案，反而asml的方案才是中國現在最可能最快研製出
來的。
3、這説的是euv，至於duv，應該很快了。當然，生產出來只是解決有無的問題，還需要長
時間不斷迭代才可能真正趕上asml。
但根據美國之前的做法，只要中國研製出來，就會解除對應的技術封鎖，然後低價傾銷。所
以，只要duv做出來，應該就會各種豁免延期。
供參考。