※ 引述《xamous (一天死去一點)》之銘言：
: 備註請放最後面 違者新聞文章刪除
: 1.媒體來源:
: 中時
: 2.記者署名:
: 盧伯華
這記者瞞混的，大概也是抄新聞沒看原文或思考
連基本的litho graphy 大概也是是丟google翻譯抄的才會叫光刻，喝喝英文真差
怎麼樣都不可能翻譯成光刻吧？自己看原文不會怪怪的喔？
光刻光刻，兩光刻刻
: 3.完整新聞標題:
: 俄宣佈自研EUV光刻機 陸網民歡呼：老大哥給力 華為有救了！
: 4.完整新聞內文:
: 據陸媒報導，俄羅斯已公佈自主開發EUV（極紫外光）光刻機的路線圖，這款EUV光刻系統
: 與艾斯摩（ASML）的標準不同，但其目標是要比ASML的光刻機更便宜、更容易製造。一些
: 大陸網民在網上留言對此表示質疑，同時也有網民熱情歡呼：「還是老大哥給力，突破歐
: 美光刻機封鎖。中芯國際有救了，華為有救了！」
: 陸媒《芯智訊》引述匯流新聞網Cnews報導稱，俄羅斯自主研發的光刻機採用11.2nm的雷
: 射光源，而非ASML標準的13.5nm。這種波長將與現有的EUV設備不相容，需要俄羅斯開發
: 自己的光刻生態系統，這可能需要10年或更長時間。
: 報導說，該光刻機開發計劃由俄羅斯科學院微觀結構物理研究所的Nikolay Chkhalo 領導
: ，目標是製造出效能具競爭力且具成本優勢的光刻機。它採用11.2nm的氙（xenon）基雷
: 射光源，取代ASML 的基於雷射轟擊金屬錫（tin）液滴產生EUV光源的系統。而11.2nm的
: 波長能將解析度提升約20%，不僅可以簡化設計並降低光學元件的成本，還能呈現更精細
: 的細節。
: 此外，該設計可減少光學元件的污染，延長收集器和保護膜等關鍵零件的壽命。儘管該光
: 刻機的晶圓製造產能僅為ASML 裝置的37%，主要因為其光源功率僅3.6千瓦，但也足以應
: 付小規模晶片生產需求。
: 報導表示，以11.2nm波長為基礎的工具很難直接相容現有以13.5nm為基礎EUV 架構與生態
: 系統，甚至連電子設計自動化（EDA）工具也需要進行更新。雖然現有EDA 工具仍可完成
: 邏輯合成、佈局和路由等基本步驟，但涉及曝光的關鍵製程，需要重新校準或升級為適合
: 11.2nm的新製程模型。
: 報導指出，該光刻機的開發工作將分為3個階段，第1階段將聚焦基礎研究、關鍵技術辨識
: 與初步元件測試；第2階段將製造晶圓的原型機，並整合至晶片生產線；第3階段的目標是
: 打造一套可供工廠使用的系統。不過，目前還不清楚這些新的曝光工具將支援哪些製程技
: 術，路線圖也未提到各階段完成的時間表。
: 相關報導在大陸引起不少網民熱烈議論，有網民為此歡呼：「中芯國際有救了，華為有救
: 了！還是老大哥給力，突破歐美光刻機封鎖。」「雷射的難度會很大。不過ASML的方案也
: 不是最優解，只能說是走一步算一步的產物。」「各種弊端也太明顯了。現在很多國家都
: 在搞其他的EUV方案。」
: 對此消息冷嘲熱諷的網民留言就更多了：「看，那母豬正在上樹。」「國內已經有了好吧
: ，25年正式公佈。」「嗯，那就等鵝光刻機開賣吧，慢慢等。」「總算看到比某企更會吹
: 自研的了……」「朝鮮都已經說自己登陸太陽了，他的兩位大哥還在哪研究光刻機呢。」
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