目前美中科技戰，我覺得中國最難克服的是euv 曝光機，和日本的光刻膠。
尤其是euv 曝光機，我覺得中國如果沒有用偷的，至少2028年以前絕對做不出來！
甚至很可能更久！
因為中國連一台euv 曝光機都沒有，想仿制很難，中國之前又完全沒有研究。
日本光刻膠還簡單一點。
台灣制程方面很被中國挖角人才。
當然越多步驟被卡脖子，越少人敢明目張膽幫中國！
希望荷蘭asml 能守住秘密！