※ 引述《palindromes ()》之銘言：
: 中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米及以下晶片
1.支那說作出DUV已經很多次了, 到底那次是真的能用.
2.就算現在支那手持ASML光刻機也作不出台G水準的良率,
因為光一些日本作的耗材像光刻膠他們也搞不出來.
(話說材料科學這種半玄學的科學也只有日本人適合搞, 因為周期長且回報極不平均.)
3.支那離三星和英特爾還遠的很, 光接近們就夠嗆.
台G現在根本還沒把支那看到眼裡 by 台G朋友
這種新聞就是去洗一些兩岸低智的認支作戰.