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Re: [新聞] 中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米
作者:
peter080808
(peter)
2024-09-15 17:12:16
晶圓直徑300mm,照明波長248nm,分辨率≦65nm,套刻≦8nm
這是國際主流20-15年前的水準
勉強摸得到28nm製程水準
給各位點參考
套刻nm數乘以三大概就是能做到的極限
但28nm以上的製程是嚴重過剩
要用這個對抗台韓早就折舊玩的產線喔
中國政府還拿得出大量資金搞補貼嗎?
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