標題:中國晶片業恐再受打擊 彭博：荷蘭擬對ASML祭新限制
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中央社
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（中央社阿姆斯特丹29日綜合外電報導）荷蘭計劃限制半導體生產設備製造商艾司摩爾（
ASML）在中國維修半導體設備的能力，可能對中國政府致力發展世界級晶片產業構成沉重
打擊。
彭博（Bloomberg News）報導，據知情人士指出，艾司摩爾在中國提供服務和設備零組件
的某些許可將在今年底到期，荷蘭總理史庫夫（Dick Schoof）政府很可能不會續發許可
。相關決定預計涵蓋艾司摩爾的頂級深紫外光曝光機（DUV）。因討論敏感的政府決定，
知情人士要求匿名。
這家荷蘭公司生產業界最先進晶片製造設備，設備出售也附帶維持其正常運作必不可少的
維修協議。撤銷這種支援可能導致至少部分設備最快明年就無法運作。
艾司摩爾和荷蘭外貿部不予置評。
在美國施加若干壓力後，荷蘭政府才有相關決定。美國總統拜登政府高階官員表示，華府
已經提出，如果那些盟友在對中國管制作為上跟美國不同調，不排除對夥伴國家實施某些
片面措施，包括在所謂「外國直接產品規則」（Foreign Direct Product Rule）。
「外國直接產品規則」讓美國官員得以管制即使只運用極少量美國技術製造的外國產品流
向。荷蘭、日本、韓國是美國之外最重要的晶片設備製造國。彭博曾報導，拜登政府揚言
運用這項規則讓盟國就範。
荷蘭前總理呂特（Mark Rutte）的政府抗拒美方在限制提供服務上的施壓，要求給予更多
時間，評估出口限制對高階晶片生產設備的影響。
史庫夫曾任情報與安全總局（AIVD）局長，他領導的新政府早已表示會對中國採取謹慎態
度。他本月接受彭博訪問時表示，與中國討論國安議題必須「非常謹慎」。
被問到荷蘭政府是否考慮今年實施新出口限制時，史庫夫表示，他的政府與美國、日本「
協商順利」，並且預期「最終會有好結果」。
報導指出，中國還無法開發出能夠生產尖端半導體的類似設備，因此依靠艾司摩爾的浸潤
式微影系統來推進晶片製造技術。中國也還買不到使用極紫外光微影技術（EUV）的艾司
摩爾最先進機器。這種設備用於生產蘋果iPhone和輝達（NVIDIA）的人工智慧（AI）產品
等業界最精密晶片。
如果沒有艾司摩爾的DUV設備，中國科技巨擘華為及其合作夥伴中芯國際將越來越難以從
現有能力上取得突破，這些公司比居產業領導地位的台積電落後兩代。荷蘭的新限制也很
可能影響艾司摩爾的銷售，該公司近半銷售來自中國。（譯者：何宏儒/核稿：陳政一）
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