http://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/2584601
2018-10-18 15:04
三星宣布7奈米LPP製程已開發完備並投產，且使用極紫外線微影（EUV）製造。（路透）
https://i.imgur.com/JgNnlOI.jpg
〔編譯廖振堯／綜合報導〕
晶圓代工龍頭台積電7奈米製程領先業界，
訂單有蘋果（Apple）、超微（AMD）及人工智慧（AI）等利多助陣，後續營運看好。
另一巨頭三星電子（Samsung Electronics）也積極追趕台積電進度，
今日於官網宣佈其7奈米LPP製程已開發完備並投產，
https://news.samsung.com/global/
samsung-electronics-starts-production-of-euv-based-7nm-lpp-process
使用極紫外線微影（EUV）製造，可望減少層數、提高性能、降低功耗。
三星表示，
其「三星先進晶圓代工生態系統」（SAFE）已準備好引入EUV技術、7奈米LPP製程。
與非EUV技術相比，7奈米LPP製程可將光罩數減少約20%，節省生產過程及成本。
相較前身的10奈米FinFET製程，
7奈米LPP製程能減少40%晶片面積、提升20%性能、降低50%功耗。
矽谷媒體CNET週三則訪問到三星晶圓代工行銷總監史提爾（Bob Stear），他表示，
三星的7奈米製程優於台積電，台積電使用的多重圖形曝光需要多達4個光罩，
但三星導入EUV只需1個，總體光罩數減少約20%。
不過他也透露，三星目前仍有光刻機光源和晶圓產量這2個障礙。
目前其EUV光刻機功率已經穩定維持關鍵功率門檻250W長達6個月，最大功率達280W。
產量方面，史提爾指出損益平衡約是每日1500片晶圓，現在產量則較此數字高。
史提爾稱，三星決定10奈米到7奈米製程間不採用多重圖形曝光來過渡，
而是投入所有資源開發EUV技術生產。
此外，代工客戶數量持續成長，但並未透露細節。
除7奈米LPP製程，三星也發表了新款SmartSSD固態硬碟，
以及基於16GB DRAM晶片的256GB RDIMM。

因為三星沒有能力用四重曝光去做7nm