原文標題：
三星SDI開始開發半導體光阻劑
(請勿刪減原文標題)
原文連結：
https://bit.ly/3wb00Au
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發布時間：
2021年7月1日
(請以原文網頁/報紙之發布時間為準)
原文內容：
三星 SDI（Samsung SDI）開始開發半導體光阻劑（photoresist）。目標將幾乎被日本壟
斷的半導體光阻劑的生產內部化，同時將電子材料部門的產品組合多樣化。
三星 SDI 的研究中心最近引進了用於開發光阻劑的 8 吋晶圓微影和塗佈及顯影設備。
由於，日本政府在 2019 年對韓國實行材料出口管制，迫使韓國尋求半導體材料的本地化
布局。三星 SDI 開發半導體光阻劑的決定將對韓國半導體材料的本地化產生重大影響。
日本企業在光阻劑產業有著壓倒性的力量，光阻劑是半導體製造的重要材料之一。
日本政府當時決定管制 EUV 光阻劑對韓國的出口。然而，日本公司也壟斷了 ArF 和
KrF 光阻劑的製造。像是富士（Fuji）主宰著用於製造 CMOS 影像感測器的 KrF 光阻劑
市場。這些材料比 EUV 光阻劑更常使用。
日本實行出口限制以來，日本的東應化（TOK）和美國的杜邦等公司已經採取行動，在出
口市場生產光阻劑，重組供應鏈。在韓國，生產光阻劑的公司，包括 Dongjin Semichem
和 SK Materials Performance ，也一直為本地化努力。然而，許多專家指出，韓國需要
投入更多的資金和人力資源，朝成為核心半導體材料的中心努力。
業界分析人士表示，三星 SDI 大規模生產光阻劑的目標，有助於大幅擴展韓國的半導體
材料研究基礎設施。
三星 SDI 沒有提及光阻劑開發計畫的時程。只提到，若能成功大規模生產，會向三星電
子以及其他半導體公司和使用光阻劑的公司供貨。
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日韓貿易戰，日本對韓國實施出口限制，如今傳出三星有意自行研發半導體光阻劑，有助
於韓國供應鏈自主化。