原文標題：
ASML新一代EUV設備飆天價 估計一台約118億元
原文連結：
https://news.cnyes.com/news/id/4876796
發布時間：
20220521
記者署名：
鉅亨網編譯羅昀玫
原文內容：
《路透》週五 (20 日) 報導，半導體微影設備廠艾司摩爾 (ASML) 新一代 High-NA EUV
設備飆天價，一台約 4 億美元 (118 億元)。
台積電、英特爾、三星等半導體大廠先進製程大戰如火如荼開打，接連重砸資本支出在各
項先進製程設備，對極紫外光 (EUV) 設備需求大增，而要爭奪晶片霸主地位的關鍵在於
ASML。它是全球唯一一家銷售極紫外光微影技術光刻機的公司，其 High-NA 曝光技術正
是延續摩爾定律的關鍵所在。
根據路透週五報導，ASML 正著手研發新一代 High-NA EUV 設備，新設備精密度更高、
設計零件更多，機型比前一代大 30%，重量超過 200 公噸的雙層巴士大小，至少需要三
架波音 747 分批運送，估算每台要價 4 億美元。
ASML (ASML-US) 高層透露，原型機有望在 2023 年上半年完成，儘管目前仍具挑戰，公
司正與全球最大的獨立微電子研發機構 IMEC 建立一個測試實驗室，讓 ASML 及其供應商
探索機器特性，並準備最早在 2025 年使用生產模型。
ASML 統計，去年第 4 季 High-NA EUV 系統已有 5 台在手訂單，預計在 2024 年交付，
還有來自五個不同客戶的超過五筆訂單，用於更快的生產模型，預定從 2025 年開始交付
。
產業調查機構 TechInsights 晶片經濟學家 Dan Hutcheson 認為，High-NA EUV 可以為
一些晶片製造商帶來顯著優勢，有點像誰擁有最好的槍，就能掌握先機。
然而，InsingerGilissen 分析師 Jos Versteeg 表示，如果 ASML 不成功，那麼持續遵
循摩爾定律將變得困難。
隨著先進製程研發競爭愈發激烈，資本支出更翻倍成長，台積電 (TSM-US) 董事會在本月
已批准撥款 167.57 億美元，用於先進製程工藝、成熟製程工藝等，意味著台積電仍在大
力提升產能，因應晶圓代工的強勁需求。
心得/評論：
按照「買某公司股票不如買他的上游公司股票」概念
ASML跟AMAT都很值得投資
只是在台灣討論都遠不及GG熱烈