就近服務台積電 艾司摩爾南科設EUV培訓中心
自由時報
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〔記者洪友芳／新竹報導〕晶圓代工龍頭台積電位於南科的五奈米製程晶圓十八廠，是導
入極紫外光（EUV）微影設備的全製程廠區，將是全球擁有EUV最大產能的半導體廠；荷商
艾司摩爾（ASML）看好台灣半導體業，並服務大客戶台積電，正式在南科設立荷蘭以外的
首座EUV全球技術培訓中心，今正式開幕，以訓練EUV設備人才。
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台積電近五年資本支出（製表：記者洪友芳）
海外首座EUV培訓中心
台積電的七奈米製程主要在中科十五廠量產，去年量產第二年，七奈米加強版才開始導入
EUV設備的技術。位於南科的晶圓十八廠剛量產五奈米製程，為台積電第一個採EUV微影設
備的全製程技術超大型晶圓廠（GigaFab），接續還將建置三奈米產能，將是全球擁有EUV
最大產能的半導體廠。
台積電是全球晶圓代工霸主，技術領先英特爾、三星等，英特爾在七奈米製程技術卡關，
日前已宣布將委外代工生產，三星則宣示下半年量產五奈米；台積電目前是全球最有能力
投資EUV微影設備的半導體廠，可說是ASML的大客戶，因此吸引ASML在南科設立荷蘭以外
的首座EUV全球技術培訓中心，以培訓EUV設備工程人才，就近服務客戶裝機與售後維修。
EUV微影設備 單價35億
EUV微影設備售價昂貴，全球僅ASML生產製造，業界預估一台售價超過一億歐元（約三十
五億台幣），…EUV技術門檻高，目前全球僅台積電、英特爾、三星採購居多；ASML在南
科廠區規劃約五百坪空間，配置EUV模組、訓練教室等，提供對內對外教育訓練，代表看
重台灣半導體市場。
台積3奈米 明年試產
因應五奈米、三奈米製程的投資龐大，即使面對疫情，台積電反而逆勢上修今年資本支出
達一六○至一七○億美元，帶動半導體供應鏈也旺。台積電估五奈米貢獻今年營收約八％
，與五奈米共用設備的四奈米製程預計二○二二年量產，三奈米製程目前進展順利，計畫
明年進入風險性試產、二○二二年下半年量產，屆時仍將是領先全球的技術。
◎小檔案：EUV 極紫外光微影技術
極紫外光微影（Extreme ultraviolet lithography，簡稱EUV），是一種使用極紫外波長
的下一代微影技術，透過高能量、波長短的光源，將電路圖案轉印到晶圓。EUV光源波長
比目前深紫外線微影的光源波長短少約15倍，因此能達到持續將線寬尺寸縮小的目的，透
過EUV微影設備，驅動晶片效能更高。台積電估算，採EUV與5奈米製程，相較7奈米，電晶
體密度多1.8倍，速度增快15％，功耗省30％（記者洪友芳）