中國想自力打造EUV ASML工程師：天方夜譚
〔編譯盧永山／綜合報導〕美國對華為實施出口管制，凸顯中國半導體產業缺乏技術和製
造設備的窘境。華為創辦人任正非日前造訪中國科學院，傳出華為將與中國科學院合作，
並能在先進的極紫外光刻（EUV）技術上有所突破，甚至超越台積電。但1名任職荷蘭艾斯
摩爾（ASML）、且投入EUV開發的華裔工程師近日發文表示，這是「天方夜譚」！
這名工程師在網路發文指出：「先別提把EUV給造出來，就是把EUV給用好都是一件無比複
雜的事情，台積電算是我們的客戶，我很佩服台積電的工程師或者說他們整個的體系。他
們對光刻機的使用達到了某種讓人欽佩的高度。」
該工程師說，打個比方，如果台積電是美國海軍擁有10艘10萬噸級核動力航母，中國晶片
製造商大概就是中國海軍，而且是在遼寧艦未拖進港時期的中國海軍；中國會不會有朝一
日造出10萬噸級別的核動力航母？這個當然有可能，但什麼時候能造出來，真的不好說，
需要天時地利人和都具備了才行。
他說，這些條件包括或可能包括：國家要下大決心，要做好十幾年甚至20年一直虧錢的準
備；外部技術封鎖要有些鬆動；要有一流人才願意給中國效力；需要大量從業的工程師來
進行過渡；三星電子、英特爾，台積電的某一家要出1個大問題，倒閉或破產，這樣能讓
出市占率，給予中國公司發展機會；新技術恰好在國家大力投入的時候興起，讓中國能實
現彎道超車。
該工程師坦言，中國若有這個錢重新在國內建立起1家像台積電一樣的公司，還不如用這
個錢直接收編台積電；從成本上來看，後者很可能更加便宜。台積電這種巨無霸如果不是
遇到晶片製造的重大革命，或者其他危機，中國企業很難超越！
該工程師說，所以中國要造新型EUV光刻機並不是中國單挑美國，而是中國要單挑外國，
因高性能的濾光片，對極端紫外線高反射率的鍍膜，耐用的商業雷射機……沒有一個是中
國自己能夠造出來的，沒有這些基礎器件，談造EUV就是天方夜譚！
他表示，造光刻機跟造航母不一樣，航母並沒有在全球的產業鏈裡面，而光刻機是全球產
業鏈整合出來的產品，針對中國的技術封鎖如果沒有鬆動，需要重複做的事情太多，絕非
十年二十年，靠中國單打獨鬥能成的；如果有人還覺得市場、錢、政策能夠大躍進式地造
出光刻機，那就是絕對錯誤的認識。
該工程師說，如果技術不革新，中國想在EUV上後來居上幾乎做不到。至於台積電，它是
使用EUV的廠商，如果中國半導體代工企業都沒有EUV可用，在10年內、20年內、甚至100
年內都很難超越台積電。
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