三星積極取得EUV設備，韓國政府也增加對半導體等產業稅收激勵
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根據BusinessKorea報導，三星電子副董事長李在鎔從荷蘭半導體設備廠艾司摩爾 (ASML)
取得額外的極紫外光(EUV)微影曝光設備。
三星電子6月15日表示，李在鎔於6月14日在荷蘭Veldhoven的ASML總部會見了ASML執行長
Peter Wennink和技術長Martin van den Brink。雙方高層就未來半導體技術、半導體市
場前景、EUV微影設備供應和中長期業務方向等進行了廣泛討論。三星電子則未透露相關
ASML將提供的額外EUV微影設備之細節。
報導指出，三星需要確保EUV設備的穩定供應，才能超越台積電，取得全球晶圓代工的龍
頭地位。但目前只有ASML能生產EUV設備，且年產量有限。因此，三星電子想要取得比
ASML供應的最大客戶台積電更多的設備並不容易。
三星電子自2000年代開始，就針對半導體製造技術和設備開發方面持續與ASML進行合作，
並於2012年透過股權投資，加強與ASML的合作夥伴關係。 2016 年11月，ASML的執行長
Wennink等高階主管也拜訪過三星電子，針對下世代EUV技術的發展現況進行說明，並就中
長期投資計劃發表意見。
李在鎔也在當地會見荷蘭首相Mark Rutte，並討論加強半導體代工能力和解決全球半導體
供應鏈問題的合作。同時也請求荷蘭首相協助支持，以確保ASML 的EUV設備能夠穩定供應
。在3月時，荷蘭首相也與當時當選總統的尹錫悅針對半導體領域的合作方式進行討論。
現在，韓國政府也決定增加對投資於半導體、電動車(EV)電池和疫苗產業的大公司的稅收
激勵方案。針對型大企業投資於三項國家戰略技術相關設施的減稅稅率將提高兩個百分點
。目前，大、中、小型企業適用的最高扣除率分別為10%、12%和20%。
韓國政府預計將國家戰略半導體技術之數量從20個大幅增加，並對半導體產業的財政支持
將增加超過2兆韓元(約15.5億美元)，以利更多投資的進行。