我覺得中芯國際用duv 曝光機的極限就是7奈米了。

大概就是台積電第一代7奈米的水準吧！

這種水準現在還要賣30000元台幣，這不合理。

只是讓華為續命而已，海思設計能力也沒增加，還是只停留在5奈米。

我猜也不是用中國的EDA ，只是之前買的EDA 繼續用而已。本來就可以設計到5奈米。

只要中國拿不到euv 曝光機，我感覺差距還是會被越拉越遠。

重點還是中國什麼時候做出euv 曝光機和高階duv 曝光機。

中芯國際這次用的duv 曝光機還是用荷蘭asml 的啊！