1.原文連結：
http://bit.ly/2O5k1SQ
2.原文內容：
三星電子開始量產基於EUV的7奈米LPP製程
三星電子已完成基於EUV的7奈米LPP晶圓製程技術開發，今天(2018.10.18)宣布已開始量
產7LPP，這些產品將應用於5G、人工智慧、企業和超大規模數據中心、物聯網、汽車及網
路等需求領域。例如：車用部分，7 奈米製程預計將在今年年底前通過 1 級 AEC-Q100
認證。在封裝方面，三星正在開發一種 RDL 重布層，可在單個重布層上安裝高達 8 個高
頻寬記憶體 (HBM)。
三星新推出的7 奈米LPP(Low Power Plus)製程，將面積效率提高40％，性能提高20％且
功耗降低50％，從而提高產量，同時顯著減少層數。
EUV技術的特點和優點方面，EUV使用13.5nm波長的光來曝光矽晶片，而傳統的氟化氬（
ArF）浸沒技術則只能實現193nm波長，並且需要昂貴的多圖案光罩模組
(multi-patterning mask sets)。EUV允許使用單個光罩模組來創建矽晶片層，其中ArF可
以需要多達4個光罩模組來創建相同的層。因此，與非EUV工藝相比，三星的7LPP製程工藝
可將光罩模組總數減少約20％，進而使客戶節省時間和成本。
EUV光刻技術的改進，還提供了更高的性能、更低的功耗和更小的面積，同時通過降低多
模式複雜性來提高設計效率。與其前身的10nm FinFET相比，三星的7LPP技術不僅能夠以
更少的層數和更高的產量大大降低工藝複雜性，而且還可將面積效率提高40％、性能提高
20％或功耗降低50％。
其實，三星從2000年代開始EUV研發，初始的EUV量產已在三星位於南韓華城的S3 Fab開始
。到2020年，三星希望通過新EUV系列為晶片設計的客戶進行代工量產大批量下世代晶片
。同時，三星還開發獨特的檢測工具，可在EUV執行在製造週期早期缺陷檢測。
三星Advanced Foundry Ecosystem™也將導入EUV的7LPP先進製程。整個行業的生態系統
合作夥伴將提供基礎和先進IP、先進封裝和服務，以使三星客戶能夠在這個新平台上開發
他們的產品。從高性能和高密度標准單元到HBM2 / 2e儲存器接口和112G SerDes接口，
SAFE™可以幫助客戶在7LPP上實現他們的設計。
iKnow觀點與結語
雖然，三星比台積電稍慢才推出7奈米製程，但為了追趕台積電，三星決定率先採用EUV。
台積電7奈米已於今年(2018第二季)量產，至於採用EUV方面則會在7奈米的增強版本7nm+
才會在少數幾層光罩採用EUV。因此，台積電擁有選擇採用EUV與不採用EUV版本製程的彈
性，也就是訂價策略會成為台積電的優勢。市場推測可能是2019年下半年才會導入EUV量
產7奈米晶圓。
同時，蘋果的處理器A13 (2019)，A14(2020)已確定由台積電供應；而2020或2021年開始
，蘋果Mac將開始搭載自行設計的處理器，也是由台積電代工。所以，這也代表著台積電
靠7奈米可持續保持半導體領先地位。
英特爾10奈米何時量產一直是個謎，市場推測或許是想等到EUV技術更成熟、能達到成本
效益時才會導入量產，所以預測該時間點恐怕要到2021年底。
3.心得/評論：
雖然，三星比台積電稍慢才推出7奈米製程，但為了追趕台積電，三星決定率先採用EUV。
台積電7奈米已於今年(2018第二季)量產，至於採用EUV方面則會在7奈米的增強版本7nm+
才會在少數幾層光罩採用EUV。因此，台積電擁有選擇採用EUV與不採用EUV版本製程的彈
性，也就是訂價策略會成為台積電的優勢。