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標題: [新聞] 為了一部半導體設備 中美駐荷蘭大使館公
時間: Sat Jan 18 11:28:33 2020
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1.媒體來源:
聯合報
2.記者署名
記者林則宏／即時報導
3.完整新聞標題:
為了一部半導體設備 中美駐荷蘭大使館公開對嗆
4.完整新聞內文:
為了一部半導體設備 中美駐荷蘭大使館公開對嗆
2020-01-18 11:11聯合報 記者林則宏／即時報導
中美為了大陸廠商能否購買荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）所生產的極紫外光（
EUV）微影設備（大陸稱「極紫外光刻機」），所展開的外交角力進一步升級，大陸駐荷
蘭大使館發言人更直批美國駐荷蘭大使胡克斯特拉（Pete Hoekstra）「不可理喻」、充
滿「傲慢與偏見」。
據路透早前報導，2018年，荷蘭政府向ASML發放出口許可證，允許其向一家中國企業出口
一台EUV光刻機，價值1.5億美元。但美國政府隨後就出手干預，積極阻擾這筆交易的進行
。
為此，中美兩國駐荷蘭大使近日密集展開輿論攻防戰。中共駐荷蘭大使徐宏本月10日接受
荷蘭《金融日報》(Het Financieele Dagblad)專訪時警告，荷蘭是否批准ASML出口給中
國，可能會是兩國關係走向的風向標。
荷蘭《金融日報》17日報導，美國駐荷蘭大使胡克斯特拉受訪時聲稱，美國政府已清楚向
荷蘭表明，EUV光刻機這一敏感技術不應屬於某些地方。
胡克斯特拉還說，中國在人權保護理念上完全與西方不同。美國希望西方公司保持在高科
技領域的領先地位，無所謂美國公司還是歐洲公司。
對此，徐宏17日接受荷蘭國家公共廣播電視台（NOS）專訪時表示，他對胡克斯特拉那句
「ASML技術不應屬於某些地方」的說法感到荒謬。
徐宏說，「如果你比較我和胡克斯特拉大使的言論，誰在搞政治施壓，一目了然。」他並
意有所指地表示，「中國沒有在境外挑起一場戰爭，沒有濫用長臂管轄、實施單邊制裁，
更沒有處處以自身利益優先來處理對外關係，干涉他國內政。」
大陸駐荷蘭大使館18日又在官網發布新聞稿，再次批評胡克斯特拉前述言論「不可理喻」
。中共駐荷蘭大使館發言人稱，這種表態顯示的不是理性與尊重，而是傲慢與偏見。
新聞稿並指出，胡克斯特拉的說法證實了外界的傳聞，即美國政府的確在阻止ASML極紫外
光刻機出口中國一事上向荷蘭政府施加強大政治壓力，中方對此表示遺憾。
中共駐荷蘭使館發言人還質問胡克斯特拉，在舉不出任何證據的情況下，單純以意識形態
和國家體制的差異為由，將世界割裂為兩個敵對陣營，鼓吹國家間的隔離、對立和對抗，
這符合當今世界各國的相處之道嗎？是我們大家希望看到的未來嗎？
對於捲入中美科技競爭，荷蘭經貿部長卡赫接受NOS訪問時表示，荷蘭政府會在安全、科
技和智慧財產權保護等方面作出周全考慮，也會考慮到投資等經濟因素。他坦承，這將是
一個非常困難的決定。
大陸《財新網》指出，光刻機是用來製造晶片的大型機器。極紫外光刻機主要用於生產7
奈米及更先進製程的晶片，目前全球只有ASML能夠生產。若買不到極紫外光刻機，大陸晶
片製造廠在相當長時間內將只能停留在12或14奈米製程。
荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）捲入中美科技戰。圖為ASML位於荷蘭的總部。（路
透）
5.完整新聞連結 (或短網址):
https://udn.com/news/story/7331/4295121?from=udn-ch1_breaknews-1-99-news
6.備註:
極紫外光（EUV）已確定是次世代微影技術主流，隨著DRAM廠開始在16奈米及更先進製程
、晶圓代工廠及IDM廠在7奈米及更先進邏輯製程等開始導入EUV技術，引爆極紫外光光罩
盒（EUV Pod）強勁需求。由於半導體廠接單中只要多1層EUV光罩層需求，就要對應增加
約240～260顆EUV Pod採購量。
業者分析，若月產能達4.5萬片的7奈米12吋廠所生產的處理器或繪圖晶片，EUV光罩層數
加總起來若達20層，生產線上就得搭配安裝20台EUV機台系統。此外，目前7奈米單一晶片
平均採用的EUV光罩層數約3～5層，但微縮至5奈米製程後的EUV光罩層數將大舉提升至14
～16層，若再進一步微縮至3奈米製程，EUV光罩層數可能會高達24層以上。
隨著EUV光罩層數的快速增加，生產鏈已經全面動了起來，由於每增加1層EUV光罩層，就
要對應增加約240～260顆EUV Pod採購量。
開玩笑！美帝沒為了這科技產值把黑船開出來算客氣了好嗎？
https://www.youtube.com/watch?v=tuzHOlgxWDQ