原文標題：
美國ITC擬對半導體化學漿料Optiplane進口禁令 對英特爾影響大
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原文連結：
https://bit.ly/3DIwqpq
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發布時間：
2021年12月10日
(請以原文網頁/報紙之發布時間為準)
原文內容：
美國國際貿易委員會（ITC）擬停止進口所謂的化學機械平坦化漿料（產品名稱Optiplane
）出售。然而，杜邦的羅門哈斯（Rohm&Haas）部門在臺灣和日本生產這些產品，因而被
指控侵犯了總部位於伊利諾伊州的CMC Materials Inc.擁有的專利技術US 9,499,721（
Colloidal silica chemical-mechanical polishing composition）。該案件（337-1204
），ITC原定於12月9日晚宣佈其最終決定，但推遲到12月16日再宣布。
英特爾告訴ITC委員會，「在沒有24個月過渡期的情況下，禁止來自美國半導體晶片製造
生產線的Optiplane漿料，可能與國家安全和經濟利益相衝突。」
如果，禁令獲得批准，它可能面臨將一場晦澀難懂的法律戰風險。
本案起始於2020年7月，正式對某些化學機械平坦化漿料及其成分進行調查（337-1204）
。該調查基於伊利諾伊州奧羅拉市Cabot Microelectronics Corporation於2020年6月1日
提起的投訴，稱在向美國進口和銷售某些化學機械平面化產品時違反了1930年關稅法第
337條侵犯原告主張的專利的泥漿及其成分。 投訴人請求美國國際貿易委員會發出有限排
除令和停止令。美國國際貿易委員會在本次調查中確定了以下被訴者：
DuPont de Nemours, Inc.，位於德國威爾明頓；
Rohm and Haas Electronic Materials CMP Inc. of Newark, DE；
台灣桃園市羅門哈斯電子材料 CMP Asia Inc. (d/b/a Rohm and Haas Electronic
Materials CMP Asia Inc., Taiwan Branch (USA))；
台灣苗栗羅門哈斯電子材料亞太有限公司；
日本東京羅門哈斯電子材料株式會社；和
馬薩諸塞州馬爾堡的羅門哈斯電子材料有限責任公司。
本案調查技術侵權，指出被訴人產品Optiplane利用CMC最先進的二氧化矽粒子技術，而研
磨液即是透過二氧化矽粒子以研磨半導體層，CMC旗下iDiel系列產品也是採用這種技術。
調查期間，一名ALJ法官表示，在海外製造的元件侵犯了Cabot的專利，並駁回了杜邦主張
該專利無效的論點。
英特爾表示，在半導體製程的不同步驟中，都會使用到化學機械研磨液，且只要使用的研
磨液不同，即使僅有細微差異，也會對產線造成極大影響。因對全球半導體短缺的擔憂，
這將更打擊全球經濟。尤其，ITC禁令可能對英特爾的傷害比一些競爭對手更大，因為這
家總部位於加州更依賴在美國的工廠。反而擁有亞洲工廠的製造商，將不會受到這一變化
的影響。
但是，ITC的律師在這些案件中代表公共利益第三方，他們支持英特爾呼籲將任何進口禁
令推遲24個月。這將為英特爾過渡到可接受的非侵權替代品，提供足夠的時間。然而，
Cabot表示，英特爾和杜邦只是以晶片短缺為藉口，以避免進口禁令。
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美國ITC針對半導體製造使用的化學漿料展開調查，進口有可能被限制，英特爾擔心這會
加重全球晶片短缺情形。