※ 引述《scitamehtam (新竹恐牙狼)》之銘言：
: ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破 下一步國產曝光機？
: https://www.chinatimes.com/realtimenews/20250118000073-260410
: 陸媒網易報導，哈工大攻克13.5奈米EUV光源技術，為大陸在該領域跨出關鍵一步。值得
: 注意的是，哈工大採用粒子加速產生紫光，與ASML採用的美國光源技術和德國徠卡的透鏡
: 技術不同，展現更具突破性的創新。
https://www.zhihu.com/zvideo/1686851994256707585?utm_psn=1863967609810202624&utm_id=0
新聞所寫的用粒子加速產生紫光，上面影片有對岸博主解釋了，不過下面留言清一色都在吐槽打臉博主 哈哈
這方面我外行不予評論
另外這週的新聞哈工大團隊確實有獲得科研獎項，但具體內容是什麼就不得而知了。
https://i.imgur.com/FIEsXHf.jpeg
底下留言超好笑：
‘’專家的正臉就不要公開了吧，容易遭暗算‘’