1.原文連結(必須檢附)：
http://www.cna.com.tw/news/ait/201504300055-1.aspx
2.原文內容：
（中央社記者張建中新竹30日電）晶圓代工廠台積電持續積極衝刺先進製程技術，10奈米
製程預計2016年量產，7奈米將於2018年試產。
台積電在2014年年報中指出，16奈米鰭式場效電晶體強效版(16FF+)製程技術去年第4季已
完成所有可靠性驗證，7月可望進入量產，預期今年底前將可完成近60件客戶產品設計定
案。
至於10奈米製程，台積電2014年研發著重於基礎製程制定、良率提升、電晶體效能改善及
可靠性評估；預計今年進入試產，年底將有客戶產品設計定案，明年開始量產。
至於7奈米製程，台積電2014年開始進行進階研發，今年研發將著重於電晶體結構選擇、
電晶體與導線的基本製程制定，及初步可靠性評估。
台積電明年將進行7奈米全面開發，預計2018年進入試產。
在微影技術方面，台積電表示，隨著解析度的強化，加上針對20奈米及16奈米開發的先
進曝影技術，讓浸潤式微影技術能夠滿足10奈米技術的要求。
台積電同時指出，去年引進了第2台NXE3300極紫外光(EUV)曝光機，正與艾司摩爾(ASML)
合作提升設備能力，以達到7奈米製程技術的要求；另外，針對7奈米以下製程，正評估
多重電子束直寫技術。1040430
3.心得/評論(必需填寫)：
7奈米.....極限值要到了嗎?