※ 引述《JQK2 (ACE)》之銘言：
: 中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米及以下晶片
: 2024/9/14 22:41 編輯：楊昇儒
: （中央社台北14日電）中國工信部近日公布一項通知顯示，中國已取得重大技術突破，研發
: 出深紫外光曝光機（DUV），可生產8奈米及以下晶片，目前正在推廣應用。
: 中國工業和信息化部官網9日公布「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版
: ）」的通知，下發地方要求加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同。
: 中國工信部稱，重大技術裝備是國之重器，事關綜合國力和國家安全。「中國首台（套）重
: 大技術裝備」是指國內實現重大技術突破、擁有智慧財產權、尚未取得明顯市場業績的裝備
: 產品，包括整機設備、核心系統和關鍵零部件等。
: 這份目錄顯示，在積體電路生產裝備，其中一項是「氟化氬光刻機」（DUV曝光機），核心
: 技術指標是「晶圓直徑300mm，照明波長248nm，分辨率≦65nm，套刻≦8nm」。這也代表，
: 這台國產DUV可生產8奈米及以下晶片。
: 中國大陸科技自媒體今天轉發消息後稱，中國自己的DUV曝光機終於來了，雖然與荷蘭艾司
: 摩爾（ASML）曝光機存在代差，至少己填補空白，可控可用，期待之後能研發出更先進的極
: 紫外光曝光機（EUV）。
: 美國5日才宣布收緊製造先進半導體設備所需機器的出口管制，荷蘭政府隔天跟進，宣布擴
: 大限制半導體製造設備出口，。
: 路透社報導，ASML的1970i和1980i深紫外光曝光機（DUV）輸出中國會受到影響，兩款機型
: 大約是ASML所屬DUV產品線的中階位置。
: 中國若實現國產8奈米及以下製程DUV，未來絕大多數晶片製造，將不用受制於ASML。不過，
: 截至目前，尚無中國官方與廠商宣布這項消息。（編輯：楊昇儒）
: https://www.cna.com.tw/news/ait/202409140249.aspx
: 華為用ASML不計成本產出7奈米
: ASML說不維修就生出DUV曝光機
: 看來明年說研發出EUV也不意外了
看了一下這就
https://www.163.com/dy/article/HTHUTT3P05119JRD.html
arf也就大約跟現在最進步的差了兩代
做65nm的機器
也就大約20年前的技術
也就是現在arf的極限了
https://i.meee.com.tw/AGBMPwi.jpg
https://www.ctimes.com.tw/Art/Show2-tw.asp?O=HJO84ABI9T2AR-STDT
然後重點是這個機器沒有管控過
然後他說的號稱8nm也就是4重曝光做下去的吧
我覺得這個應該是上海微電子做出來的
因為上一代90nm也是他們做出來的
然後這機子要做到28nm也有困難也要多重曝光
然後arfi 45nm以下才是又一代新技術~就看他們何時繼續搞出來吧
管制的機器都是45nm以下的機器包含45nm~
45nm以上的機器沒被管制喔