https://udn.com/news/story/7240/4116692
2019-10-21 14:43 聯合晚報 記者張家瑋／台北報導
台積電（2330）宣布7奈米強效版及5奈米導入EUV微影技術且成功量產入市後，南韓媒體
報導，三星向半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）下訂15台EUV設備，另外，英特爾、美光
、海力士也規劃採用EUV技術，僧多粥少，全球半導體業掀起搶EUV（極紫外光）設備大戰
。
台積電日前宣布，領先業界導入EUV微影技術之7奈米強效版製程已協助客戶產品大量進入
市場，且2020年上半年量產5奈米也將導入EUV製程。根據南韓媒體報導，為達成2030年成
為全球第一半導體大廠的目標，並超越晶圓代工龍頭台積電，搶佔未來二到三年的5G商用
化所帶來的半導體市場需求，三星已向全球微影曝光設備大廠ASML訂購15台先進EUV設備
。
另外，英特爾EUV計畫的負責人Britt Turkot年中表示，EUV技術已經準備好，並且投入大
量的技術開發。記憶體大廠美光、海力士也計畫導入EUV技術，然而目前全球提供EUV設備
僅ASML一家，業界預估ASML一年僅能生產約30台EUV設備，在各大廠相繼投入之下，形成
設備機台一機難求，排隊等設備景象。
由於EUV極短波長 13.5奈米之強力光線的技術，能夠更完美地解析先進製程的設計，減少
晶片生產步驟及光罩層數，在5G即將進入商轉，高速高頻特性，對晶片微縮、低功耗要求
高，成為延續摩爾定律重要技術。
不過，要駕馭此複雜且昂貴系統來製造大批晶片卻是一件難事，三星雖最早宣布7奈米製
程導入EUV，但先前即傳出生產晶片良率及產量不足，台積電表示，為何7奈米一開始未導
入EUV，正因新技術導入製程需要經歷一段學習曲線，台積電在7奈米強效版成功學習經驗
，未來可順利導入5奈米製程。